電子、線路板脫鹽水（純化水）項(xiàng)目
一、應(yīng)用范圍
單層、多層線路板沖洗用水
微電、光電電子元器件沖洗用水
晶源、多晶硅沖洗用水
真空鍍膜表面清洗用水
二、公用工程及設(shè)計(jì)出水標(biāo)準(zhǔn)
1.系統(tǒng)純水生產(chǎn)能力： 0-100 m3/h ×n套
2.產(chǎn)水主要指標(biāo)：電導(dǎo)率≤0.06us/cm2(≥18.2MMΩ)
3.純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：中國(guó)（美國(guó)）電子工業(yè)部一級(jí)/二級(jí)高純水標(biāo)準(zhǔn)
4.系統(tǒng)運(yùn)行方式：全自動(dòng)運(yùn)行,24小時(shí)連續(xù)供水，DCS遠(yuǎn)程監(jiān)控；
5.系統(tǒng)用水標(biāo)準(zhǔn):市政自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)GB5749-2006
6.系統(tǒng)用電參數(shù):AC(DC)380V/220V-50(60)HZ
7.水站排水量:0-100 m3/h ×3倍
9.水站照明照度：≥150LUX
三、化學(xué)藥品
添加化學(xué)藥品為市場(chǎng)可購(gòu)買到的常規(guī)工業(yè)級(jí)產(chǎn)品，配置清單如下:
藥品名稱 | 中文/化學(xué)成份 | 配制濃度 | 加藥量 | 參考型號(hào) |
膜專用絮凝劑 | PAC/PAM | 1-5% | 3-5mg/L | GE-MPT150 |
膜專用還原劑 | 三氯化鐵/聚合硫酸鐵 | 1-5 | 3-5mg/L | 98％原料固含量 |
膜專用阻垢劑 | 小分子磷酸鹽 | 1-5% | 3-5mg/L | GE-MDC220/200 |
PH調(diào)節(jié)劑 | 鹽酸HCl/片堿NaOH | 1-2% | 0.5-1mg/L | 30%-97%原料濃度 |
酸、堿樹(shù)脂再生劑 | 鹽酸HCl/片堿NaOH | 4-10% | 4-6% | 30%-97%原料濃度 |
酸、堿性膜清洗劑 | 酸、堿性混合共聚物 | 1-5% | 清洗容積測(cè)算 | GE-MCT103/882 |
四、工藝流程簡(jiǎn)圖
1．工藝流程一：UPW-DI系統(tǒng)
優(yōu)點(diǎn)：投資少，出水質(zhì)好！
缺點(diǎn)：運(yùn)行成本高，酸堿耗量大，環(huán)境污染較大！
2．工藝流程二超純水系統(tǒng)：軟水-UF前處理-RO- EDI-POLISHING-TOC降
優(yōu)點(diǎn)：占地小、自動(dòng)化程度高、水利用率高、產(chǎn)水質(zhì)量高、酸堿耗量少；
缺點(diǎn)：投資相對(duì)較大；
